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碳化硼噴嘴的制作及作用


碳化硼涂層的制備方法
碳化硼噴嘴涂層存在著晶體和非晶體兩種結構,非晶體涂層的硬度低于晶體涂層硬度制備碳化硼涂層的方法很多,主要有CVD真空鍍膜可調射頻磁濺射LCVD微波法離子濺射等實際應用中應根據具體要求采用不同的方法制備碳化硼涂層,爭取獲得最大的效益
采用離子濺射制備B4C涂層時,影響涂層性能最重要的因素是濺射距離濺射距離對涂層的成分和微觀結構影響很大,B2O3含量隨著濺射距離的增大而增大,而涂層致密率隨著濺射距離的增大而降低,彈性模量下降濺射距離增加導致致密率下降有兩個原因:一是當粒子處于熔融狀態時,伴隨B2O3形成的氣體被圍在基體中形成氣孔.

碳化硼噴嘴與酸、堿溶液不起反應,具有高化學位、中子吸收、耐磨 及半導體導電性。是對酸最穩定的物質之一,在所有濃或稀的酸或 堿水溶液中都穩定。用硫酸、氫氟酸的混合酸處理后,在空氣中800 ℃煅燒21h,可完全分解并形成三氧化碳和三氧化二硼。當有一些過渡金屬及其碳化物共存時,有特殊的穩定性。但是,目前對碳化硼涂層的研究還不夠深入與對其它涂層的研究相比,國外只有少量論文對B4C作為硬涂層進行了探討,而國內相關的研究成果就更少本文在目前的研究基礎上,綜述了碳化硼涂層的有關研究成果,探討了碳化硼涂層研究的進展和未來發展方向

 

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